1 天前 · 来源：科技日报新方法“透视”光刻胶微观行为 可显著减少芯片光刻缺陷光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日 ......
13 小时之前 · “显影”是光刻的核心步骤之一，通过显影液溶解光刻胶的曝光区域，将电路图案精确转移到硅片上。光刻胶如同刻画电路的颜料，它在显影液中的运动，直接决定电路画得准不准 …...
12 小时之前 · 光刻胶领域，我国取得新突破 2025年10月25日 20:02 每日经济新闻 新浪财经APP 举报 缩小字体 放大字体 收藏 微博 微信 分享 32
11 小时之前 · 光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描（cryo-electron …...
10 小时之前 · 光刻胶如同刻画电路的颜料，它在显影液中的运动直接影响电路的精准度和芯片良率。 长期以来，光刻胶在显影液中的微观行为一直是未知的“黑匣子”，工业界只能通过反复试错 …...
12 小时之前 · 每经AI快讯，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过 ......
9 小时之前 · 2025/10/25 23:09 【光刻胶领域 我国取得新突破】据科技日报，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学 ......
1 天前 · 每经AI快讯，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在 …...
快科技10月26日消息，据国内媒体报道称，我国芯片领域取得新突破，具体来说是在光刻胶领域。北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作 ...
10 小时之前 · 长期以来，光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”，工业界的工艺优化只能靠反复试错，这成为制约7纳米及以下先进制程良率提升的关键瓶颈 ......